Laboratorium technologiczne CVD

opiekun laboratorium: dr hab. inż. Hieronim Szymanowski, prof. uczelni

Hala Technologiczna jest wyposażona w unikalną aparaturę do nakładania cienkich powłok opartą o metodę PE CVD. Posiadana aparatura jest wieloletnim dorobkiem Zakładu i powstała w oparciu o bogate doświadczenie w prowadzeniu badań nad plazmo-chemiczną metodą nakładania cienkich powłok. Posiadamy unikalne wyposażenie służące do diagnostyki procesów, polegającej na pomiarze ilości, rodzaju oraz energii jonów, rodników oraz cząstek obojętnych obecnych w wyładowaniu. W rektorach opracowano m.in. technologię nakładania gradientowych filtrów optycznych. Technologia plazmochemiczna pozwala również na modyfikację powierzchni ciał stałych.

Laboratorium jest wyposażone w unikalną aparaturę do plazmochemicznej modyfikacji ciał stałych w postaci sypkiej.

Laboratorium posiada także jedyny w kraju reaktor do nakładania cienkich powłok polimeru nazywanego Parylenem. Cienka powłoka z tego polimeru stanowi barierę dla gazów, cieczy, co przekłada się na rosnące zainteresowanie tą bardzo interesującą technologią. Przykładem może być wytworzony we współpracy z Katedrą Fizyki Molekularnej PŁ pierwszy w kraju cienkowarstwowy elastyczny tranzystor.