Laboratorium technologiczne PVD

opiekun laboratorium: dr inż. Marcin Makówka

Laboratorium technologiczne prowadzi badania oraz usługowe w zakresie wytwarzania:

1. Powłok supertwardych – np. TiN, nanokompozyt TiN/a-Si₃N₄ i powłoki węglikowe, do pokrywania narzędzi skrawających z węglików spiekanych, stali szybkotnących, elementów narażonych na zużycie wynikające z tarcia i zużycia abrazyjnego, a także jako ceramiczne powłoki stabilne chemiczne do zastosowań biomedycznych.
2. Twardych warstw węglikowych wytwarzanych metodą pośrednią.
3. Powłok niskotarciowych na elementy par ciernych pracujących w wysokoobciążonych węzłach tribologicznych w niskich i wysokich temperaturach i przestrzeni kosmicznej, np. nanokompozyty na bazie amorficznego węgla z dodatkiem metali przejściowych i półmetali, MoS₂, MoO₃+Ag i inne.
4. Powłok żaroodpornych – na bazie superstopów metali i ceramiki do ochrony elementów w atmosferze utleniającej w temperaturze do 1000 ^OC.
5. Barier termicznych – np. na bazie ZrO₂, w tym do zastosowań w przestrzeni kosmicznej.
6. Odbłyśników promieniowania – np. powłoki z czystych metali na elementy czas anten satelitów stosowanych w przestrzeni kosmicznej, a także odzieży i akcesoriów do zastosowań specjalnych.
7. Powłok zabezpieczających przed oddziaływaniem szkodliwego promieniowania UV do zastosowań kosmicznych, np. włókien aramidowych pokrywanych powłokami metalowymi lub ceramicznymi.
8. Katalizatorów z wykorzystaniem cienkich powłok np. Pt lub Re.
9. Powłok dekoracyjnych.

Nasze zaplecze badawcze to:
- stanowisko do osadzania powłok B-90, wyposażone w cztery niezależne magnetrony umożliwiające osadzanie powłok metodami:
     Rozpylania magnetronowego średniej częstotliwości (MFMS),
     Rozpylania magnetronowego wysokiej częstotliwości (RFMS),
     Rozpylania magnetronowego wymuszane impulsami gazu (GPMS),
     Impulsowego rozpylania magnetronowego dużej mocy HIPIMS.
- stanowisko CVD/PVD do chemicznego i fizycznego osadzania powłok z fazy gazowej, wyposażone w urządzenia do ciągłej analizy parametrów plazmy, wyposażone w cztery magnetrony umożliwiające wytwarzanie powłok metodami:
     Rozpylania magnetronowego średniej częstotliwości (MFMS) z możliwością pracy w zamkniętym polu magnetycznym (CFMFMS);
     Rozpylania magnetronowego wymuszane impulsami gazu (GPMS)
     Impulsowego rozpylania magnetronowego dużej mocy HIPIMS
     Niskotemperaturowe osadzanie metodą RF PECVD.
- stanowisko do osadzania powłok na elementach małogabarytowych WP11, wyposażone w cztery 1’’ magnetrony z możliwością osadzania powłok następującymi metodami:
     Rozpylania magnetronowego średniej częstotliwości (MFMS),
     Rozpylania magnetronowego wysokiej częstotliwości (RFMS),
     Rozpylania magnetronowego wymuszane impulsami gazu (GPMS),
     Impulsowego rozpylania magnetronowego dużej mocy HIPIMS.
- piec próżniowy do obróbki cieplnej i cieplno-chemicznej w wysokiej próżni (~10^-3 Pa), w tym z wykorzystaniem wyładowania do wzbudzania plazmy średniej częstotliwości np. do umacniania dyfuzyjnego stopów tytanu w plazmie argonowo-tlenowej.