Hala Technologiczna jest wyposażona w unikalną aparaturę do nakładania cienkich powłok opartą o metodę RF PE CVD. Posiadana aparatura jest wieloletnim dorobkiem Zakładu i powstała w oparciu o bogate doświadczenie w prowadzeniu badań nad plazmo-chemiczną metodą nakładania cienkich powłok. Posiadamy unikalne wyposażenie służące do diagnostyki procesów, polegającej na pomiarze ilości, rodzaju oraz energii jonów, rodników oraz cząstek obojętnych obecnych w wyładowaniu. W rektorach opracowano m.in. technologię nakładania gradientowych filtrów optycznych, powłok wykazujących efekt superhydrofilowy.
Laboratorium jest wyposażone w unikalną aparaturę do plazmochemicznej modyfikacji ciał stałych w postaci sypkiej. W zależności od zastosowanego medium roboczego pozwoliło to na zmianę właściwości powierzchniowych obrabianych materiałów. Z hydrofilowych na hydrofobowe lub odwrotnie. Ma to ogromne znaczenie w wytwarzaniu kompozytów o bardzo szerokich możliwościach aplikacyjnych.
Laboratorium posiada także jedyny w kraju reaktor do nakładania cienkich powłok polimeru nazywanego Parylenem. Cienka powłoka z tego polimeru stanowi barierę dla gazów i cieczy. Powłoki posiadają także interesujące właściwości elektryczne co zaowocowało wytworzeniem we współpracy z Katedrą Fizyki Molekularnej PŁ pierwszego w kraju cienkowarstwowego elastycznego tranzystora. Doskonałość w opanowaniu technologii cienkowarstwowych pozwoliło na rozpoczęcie badań nad meta materiałami np. diodą świetlną opartą na cienkowarstwowym grafenie HSMG i parylenie.